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华为mate60 pro 发布了,9000s 芯片神秘量产,“卡脖子技术”之光刻胶,到底卡在哪里?之一

2023/9/7 17:43:08      点击:

光刻胶究竟是怎样一个行业?


光刻胶,又称“光致抗蚀剂”,是光刻成像的承载介质,可利用光化学反应将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量,从而把微细图形从掩模版转移到待加工基片上。其被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键性材料。

一言以蔽之,光刻胶是光刻工艺最重要的耗材,其性能决定了加工成品的精密程度和良品率,而光刻工艺又是精密电子元器件制造的关键流程,这使得光刻胶在整个电子元器件加工产业,都有着至关重要的地位。


需要强调,尽管近年来光刻胶与芯片一起反复为媒体所提及,但它从来不是只用于半导体生产,甚至在三个主流应用领域(半导体、PCB、LCD)里,半导体光刻胶的市场规模也最小。受篇幅所限,本文将聚焦于受关注度最高,也是典型的“卡脖子”领域——半导体光刻胶,其它用途将仅作粗略介绍,不详细展开。
从整体产业链看,光刻胶上游为各类专用化学制品,属于精细化工行业;下游则为各类电子元器件制造行业。

从生产原材料看,光刻胶的上游为各类专用化学品,属于精细化工产业,包括光引发剂(光增感剂、光致产酸剂)、溶剂、成膜树脂及添加剂(助剂、单体等)。

从用量上来说,溶剂(主要为丙二醇甲醚醋酸酯,简称PMA)是用量最大的材料,含量最高可达90%,但在成本上并不突出,且不起关键作用;作为光化学反应的核心部分,光引发剂的用量仅有约1%~6%;树脂则在不同光刻胶产品中的用量区别很大。

从成本看,在半导体光刻胶领域,越先进的工艺,树脂成本占比越高:以 KrF(氟化氪)光刻胶为例,树脂成本占比高达约75%,感光剂约为23%,溶剂约为2%。

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